東莞市鼎偉靶材有限公司是專業生產高純金屬材料，蒸發鍍膜材料以及濺射靶材的高新技術企業應用開發的科技型民營股份制工貿有限公司。公司以青島大學和青島科技大學蒸發材料專業為技術依托，擁有多名中高級專業技術人員和專業化應用實驗室，具有很強的蒸發材料開發能力。公司先后研發的蒸發材料、濺射靶材系列產品廣泛應用到國內外眾多知名電子、太陽能企業當中，以較高的性價比，成功發替代了國外進口產品，頗受用戶**。
鈀金靶材，Ir銥顆粒
東莞市鼎偉靶材有限公司
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地址：東莞市南城區民間金融大廈
公司主要經營產品：
一、真空鍍膜材料
1．高純真空濺射靶材（99.9％——99.999％）
高純金屬靶材：鋯靶Zr、鉻靶Cr、鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、釩靶V、銻靶Sb、銦靶、硼靶B、鎢靶W、錳靶Mn、鉍靶Bi、銅靶Cu、石墨靶C、硅靶 Si、鉭靶 Ta、鋅靶Zn、鎂靶Mg、鈮靶Nb、鉬靶Mo、鈷靶Co、鐵靶Fe、鍺靶Ge、鉿靶Hf、鉛靶Pb、鎳靶Ni、銀靶Ag、硒靶Se、鈹靶Be、碲靶Te、不銹鋼靶材S.S等……
多元合金靶材： 鈦鋁靶Ti-Al、鈦鋯靶Ti-Zr、鈦硅靶Ti-Si、鈦鎳靶Ti-Ni、鎳鉻靶Ni-Gr、鎳鋁靶Ni-Al、鎳釩靶Ni-V、鎳鐵靶Ni-Fe、鐵鈷靶Fe-Co、鋁硅靶Al-Si、鈦硅靶Ti-Si、鉻硅靶Cr-Si、鋅鋁靶Zn-Al、鈦鋅靶材Ti-Zn、鋁硅銅靶Al-Si-Cu等……
陶瓷濺射靶材：ITO靶、單晶硅靶、多晶硅靶、一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化鈦靶TiO2、氧化鋯靶ZrO2、二硼化鈦靶TiB2、氧化鎂靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二釔靶Y2O3、五氧化二釩靶V2O5、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、硫化鉬靶MoS、硫化鎢靶WS、氧化鋅鋁靶ZAO、氧化鋁靶Al2O3、鈦酸鍶靶SrTiO3、五氧化二鉭靶Ta2O5、五氧化二鈮靶Nb2O5、氧化鋅鎵靶ZGO、氧化鋅硼靶ZBO、砷化鎵靶GaAs，磷化鎵靶GaP，硒化鋅靶、錳酸鋰靶、鎳鈷酸鋰靶、鉭酸鋰靶，鈮酸鋰靶、等…
稀土金屬靶：鑭靶、鈰靶、鐠靶、釹靶、釤靶、銪靶、釓靶、鋱靶、鏑靶、鈥靶、鉺靶、銩靶、鐿靶、镥靶、釔靶等…
稀土氧化物靶：氧化鑭靶、氧化鈰靶、氧化鐠靶、氧化釤靶、氧化銪靶、氧化釹靶、氧化釓靶、氧化鋱靶、氧化鏑靶、氧化鈥靶、氧化鉺靶、氧化銩靶、氧化鐿靶、氧化镥靶
金屬膜電阻器用Ni-Cr-Si/ Ni-Cr-Mn-Cu濺射靶材：
金屬膜電阻器用靶材包括高阻系列（ZYG）、中阻系列（ZYZ）和低阻系列（ZYC）、超低阻系列（ZYCD）。
2．高純光學鍍膜材料（99.99％——99.999％）
氧化物：一氧化硅、二氧化硅、一氧化鈦、二氧化鈦、三氧化二鈦、五氧化三鈦、二氧化鋯、二氧化鉿、二氧化鈰、二鈦酸鐠、三氧化鎢、五氧化二鉭、五氧化二鈮、三氧化二鈧、三氧化二鋁、三氧化二銦、氧化鐿、氧化鋅、氧化鎂、氧化釓、氧化釤、氧化釹、氧化鈣、氧化鐠、氧化鉍、氧化鉻、氧化鎳、氧化銅、氧化鐵、氧化釩等…
氟化物：氟化鎂、氟化鈣、氟化釹、氟化鑭、氟化鐿、氟化釔、氟化鉺、氟化釤、氟化鏑、氟化鈰、氟化鋇、氟化鍶、氟化鉀、氟化鈉等…
硫化物：硫化鋅、硫化鉬、硫化鈣、硫化銻、硫化鐵、硫化鈉等…

物以稀為貴。釕、銠、鈀、鋨、銥、鉑6個元素在地殼中的含量都非常少。除了鉑在地殼中的含量為億分之五、鈀在地殼中的含量為億分之一外，釕、銠、鋨、銥4個元素在地殼中的含量都只有十億分之一。又由于它們多分散于各種礦石之中，很少形成大的聚集，所以價格昂貴。這6個元素在化學上稱作鉑族元素，加上已經介紹過的銀和金，就是我們常說的貴金屬。
高純Pd鈀靶材廠家：鈀靶、鈀粒、鈀片、鈀粉
純度：3N 、3N5、4N
規格：鈀靶（平面圓靶，方靶，旋轉靶，臺階靶均可加工，規格按客戶要求定做）
 鈀粒（不規則顆粒1-5mm,10*10*1mm片狀，其他規格定做）
 鈀片（10*10*1mm,根據客戶要求定做）
 鈀粉（根據客戶要求定做）
高純Ir銥：銥靶、銥粒、銥片、銥粉
純度：3N 、3N5、4N、4N5
規格：銥靶（平面圓靶，方靶，旋轉靶，臺階靶均可加工，規格按客戶要求定做）  銥粒（規格Φ2*5mm,Φ2*10mm，其他規格定做）
 銥片（根據客戶要求定做）
 銥粉（根據客戶要求定做）T(不是聯系方式)
高純鉑：鉑靶、鉑粒、鉑絲、鉑電極、鉑片、鉑粉
純度：3N 、3N5、4N、4N5、5N
規格：鉑靶（平面圓靶，方靶，旋轉靶，臺階靶均可加工，規格按客戶要求定做）  鉑粒（規格Φ2*5mm,Φ2*10mm，其他規格定做）
 鉑絲（Φ0.2mm、Φ0.3mm、Φ0.5mm、Φ1mm其他規格定做）
 鉑片（根據客戶要求定做）
  鉑粉（根據客戶要求定做）
高純Ru釕：釕靶、釕粒、釕塊、釕片、釕粉
純度：3N 、3N5、4N、4N5
規格：釕靶（平面圓靶，方靶，旋轉靶，臺階靶均可加工，規格按客戶要求定做）  釕塊（不規則塊狀，塊狀大小可根據客戶要求）
 釕粉（根據客戶要求定做）
高純Rh銠：銠靶、銠粒、銠塊、銠粉
純度：3N 、3N5、4N
規格：銠靶（平面圓靶，方靶，旋轉靶，臺階靶均可加工，規格按客戶要求定做）  銠塊（不規則塊狀，塊狀大小可根據客戶要求）
 銠粉（根據客戶要求定做）

進入20世紀90年代以來，隨著新技術和新材料，特別是微電子行業的新器件和新材料的飛速發展，濺射靶材的市場規模日益擴大。!1990"年世界靶材市場銷售額為336-397億日元，年增長率達到 20%；!1991!年約為377-443億日元， 年增長率為10% 。!1995年僅日本的靶材市場就已達到500億日元［G］ 。據不完全統計，!1999年世界靶材市場的 年銷售額近!10億美元，其中日本的市場份額超過世界市場的一半，美國的市場份額約占世界的三分之一，中國大陸的年銷售額約E""300-500"萬美元，中國臺灣地區的年銷售額約2500""萬美元。由于電子薄膜、光學薄膜、光電薄膜、磁性薄膜和超導薄膜等在高新技術和工業上的大規模開發應用，靶材已逐漸發展成為一個專業化產業。隨著高新技術的不斷發展，世界的靶材市場還將進一步擴大。
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【原創內容】
用玻璃球拋丸法處理有污垢的部件同時用壓縮空氣清除腔體四周前期濺射剩余物，再用氧化鋁浸漬過的沙紙輕輕的對表面進行拋光。紗紙拋光后,再用酒精，丙酮和去離子水清洗，同我們發現有需要維修的地方會書面通知客戶并提供維修報價三、包裝和運輸所有已貼合靶材包裝在真空密封塑料袋中，并附有防潮劑。外包裝一般為木箱，四周有防撞層，以保護靶材氣體(氬氣或氧氣)必須清潔并干燥，濺鍍腔內裝入基材后便需將空氣抽出，達到工藝所要求的真空度。暗區屏蔽罩，腔體壁及鄰近表面也需要保持潔凈。在清洗真空腔體時我們建議采第二步與第一步類似用酒精清潔；第三步用去離子水清洗。在用去離子水清洗過后再將靶材放置在烘箱中以100攝氏度烘干30分鐘。氧化物及陶瓷靶材的清洗建潔用“無絨布”進行的保護手套，絕對避免用手直接接觸靶材二、靶材清潔靶材清潔的目的是去除靶材表面可能存在的灰塵或污垢。金屬靶材可以通過四步清潔，第一步用在丙酮中浸泡過的無絨軟布清潔；路進行判斷。在確定陰極不存在短路后，可以進行檢漏檢查，將水通入陰極確定是否存在漏水現象。五、靶材預濺射靶材預濺射建議采用純氬氣進行濺射，可以起到清潔靶材表面的作化合物覆蓋面積增加的速率得不到抑制，濺射溝道將進一步被化合物覆蓋，當濺射靶被化合物全部覆蓋的時候，靶完全中毒一、背靶材料無氧銅(OFC)–目前較常使用的作背靶的材料是無氧銅，因為無氧銅具有良好的導電性和導熱性，而且比較容易機械加工。如果保養適當，無氧銅背靶可以重復使用10次甚至更多。鉬(Mo)–在某些使用條件比較特殊的情況下，如