東莞市鼎偉新材料有限公司專業生產：鎳釩合金靶、高純鉻靶、鈦鋁靶、鉻鋁靶、鎳鉻合金靶、鎢鈦合金靶材等；公司先后研發的蒸發材料、濺射靶材系列產品廣泛應用到國內外眾多知名電子、太陽能企業當中，以較高的性價比，成功發替代了國外進口產品，頗受用戶好評。

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ITO靶材主要難點

時間：2022-09-18瀏覽數：833

（一）粉末制備

粉末冶金較核心的競爭力就是粉體，能夠獨立生產高品質穩定的粉體的公司，會在未來占有一席之地。

（二）大尺寸燒結工藝

ITO靶材的另一個難點就是燒結工藝，精準的燒結工藝是燒結高品質靶材的關鍵。燒結工藝細分為真空熱壓法、熱等靜壓法、常壓燒結法。目前高端顯示器用鍍膜靶材主要采用常壓燒結法，性價比高。

（三）成本投入較大

ITO生產中需要使用非常多的大型設備，如冷壓機，大型模壓機，燒結爐，加工設備及綁定設備，每一項的投入都非常大。整廠的設備投入預計在5000萬以上（年產50噸），且因為是能耗大戶，日常的能源消耗也是非常可觀的，運營維護成本也比較高。

（四）產品的驗證

如何能夠自主的驗證產品是否符合客戶的使用需求，是產品能否一次通過客戶驗證并且順利導入生產的關鍵因素，所以企業自己配套綁定檢測設備及鍍膜機就是保證。

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